01
載入中
將樣品系統裝入塗佈室。
02
真空幫浦
在進行PVD塗層沉積時，需要高真空環境。華昇的塗層系統分兩步驟進行：首先，機械幫浦將真空室壓力從1000毫巴降低到10⁻¹毫巴；然後，渦輪分子幫浦產生約1×10⁻⁶毫巴的高真空。
03
加熱
將腔室加熱到約 500℃，這是常規製程溫度。
04
等離子蝕刻
華昇塗層系統採用三種不同的蝕刻製程技術：HUASHENG®（側輝光放電）；氬等離子體蝕刻、輝光放電；金屬離子蝕刻（Ti+，Cr+）。
05
沉積
採用 PVD（電弧離子鍍、磁控濺鍍或整合陰極 HUASHENG® 技術）進行塗層沉積。
06
冷卻
冷卻塗層室。
07
卸貨
從塗佈室中卸下樣品系統。
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流程 1
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流程 2
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流程 3
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流程 4
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流程 5
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流程 6
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