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DLC系列-DLC塗層機

耐磨抗摩擦DLC塗層沉積機

華昇自主研發的DLC系列真空鍍膜設備,整合了離子源、磁控濺鍍(MS)和等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)技術,可快速沉積類鑽石碳(DLC)塗層。這些塗層具有高硬度、耐磨性、低摩擦係數、耐腐蝕性和抗黏附性等優異性能。

該系統採用簡單的硬體設計,無需額外的電離源。複合磁場設計提高了電離效率,確保了薄膜結構的緻密性和均勻性。沉積速度超過1μm/h,顯著提高了生產效率。

DLC系列製程可在低溫(

整合的等離子清洗功能無需外部維護,使系統操作簡單且經濟高效。它還能確保潔淨的製程環境和穩定的塗層性能。

    產品優勢

    雙側開門結構,操作簡便

    製程技術穩定,自動化操作

    塗層光滑,避免大顆粒污染

    等離子清洗產品,提高塗層附著力

    採用PECVD混合技術,應用場景更廣泛

    產品特性

    • 產品特性
      沉積溫度: 適用材質:鋼、鈦合金、鋁合金等。
    • 產品特性
      表面光滑,採用原子沉積工藝,不影響產品粗糙度。
    • 產品特性
      低摩擦係數
      與鋼材摩擦與鈦合金研磨 潤滑,降低消耗。
    • 產品特性
      優異的耐磨性(性能是鋼的數百倍)大大延長了零件的使用壽命。
    • 產品特性
      優異的抗腐蝕性能(化學惰性)。
    DLC(2)

    華昇類鑽石碳塗層的結構設計特點

    華昇DLC塗層的結構設計以耐磨、潤滑、防腐蝕和高結合強度等零件塗層要求為基礎,遵循「多層結構」、「梯度過渡」和「切口整合」的設計理念。

    華盛類鑽石碳塗層的結構設計特點

    DLC塗層結構設計

    蝕刻技術(7)

    塗層厚度 2-4μm

    產品參數

    模型 DLC800PRO
    塗層技術 磁控濺鍍+PECVD
    塗層類型 Cr/WC/aC:H
    蝕刻
    陰極(數量) 4
    設備尺寸 長4100*寬1200*高2500
    空腔容積 0.8
    有效塗層面積 Ф650*400
    塗層沉積溫度 <200
    容量(樹木數量) 10
    最大載重(公斤) 500
    軸徑(毫米) F130
    處理時間(小時) 6~8
    DLC(2)
    模型 DLC1500MAX
    塗層技術 磁控濺鍍+PECVD
    塗層類型 Cr/WC/aC:H
    蝕刻
    陰極(數量) 4
    設備尺寸 長4900*寬1800*高2950
    空腔容積 2
    有效塗層面積 Ф900*1000mm
    塗層沉積溫度 <200
    容量(樹木數量) 客製化產品
    最大載重(公斤) 1000
    軸徑(毫米) 最大尺寸Ф350
    處理時間(小時) 6~8
    DLC

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