HD500－HD系列全新複合離子鍍膜設備
15 +
工作年限
700 +
全球安裝
原廠設備製造商
可用的解決方案
30 +
國家和地區
獨特的側面蝕刻
√ 橫向蝕刻均勻性極佳
√ 優異的蝕刻懸邊性能和便利的維護
複合型高功率脈衝磁控濺射
√ 配備 DC + HiPIMS MS 源，可確保高沉積速率，同時滿足沉積 Nb、BC、W、V 等難熔金屬的能量要求，並能夠沉積幾乎所有材料。
電漿優化多弧源
√ 配備 3 組 6 個圓形多弧目標源，隱藏式電弧引燃機構可靠且易於維護。
√ 可以輕鬆實現多元素和多層薄膜沉積。
√ 最佳化的等離子多弧源確保了更光滑的薄膜表面。
√ 目標材料利用率非常高。
多種沉積技術平台
√ 在同一平台上實現多種薄膜沉積技術，包括直流磁控濺鍍+高功率脈衝磁控濺鍍+多弧離子鍍，並可在同一批次中實現單一、複合和混合塗層方法。
| 姓名 | 範圍 |
| 塗層技術 | 全新複合塗層技術 |
| 蝕刻 | 側向離子源（熱絲） |
| 多弧源（數量） | 6 |
| 磁控管陰極（數量） | 1 |
| 設備尺寸（毫米） | 長3400*寬1600*高2600 |
| 腔室容積（立方公尺） | 0.7 |
| 有效塗層面積（毫米） | Ф410*400 |
| 最高工作溫度（℃） | 700 |
| 承載力（樹木數量） | 5 |
| 葉片載重（APMT1135） | 6000件 |
| 桿刀片裝載能力（D4*50L） | 1800件 |
| 最大載重（公斤） | 300 |
| 軸徑 | F130 |
| 處理時間 | AlTiN：6~8小時 |