WCC800鍍膜設備濺鍍沉積工藝
離子源
- 用於表面清潔的高能量等離子體
- 原子級蝕刻而不影響表面粗糙度；
- 易於維護
採用不平衡磁場設計以實現高目標利用率；
- 塗層種類：Cr、WC/C、TiAlN等
- 塗層類型：Cr、WC/C、TiAlN 等
- 提供更優質的塗層
- 降低薄膜應力
| 模型 | WCC800 |
|---|---|
| 科技 | 1DCMS+3HiPIMS |
| 塗層類型 | Cr、WC/C、TiAlN等 |
| 蝕刻 | 放 |
| 陰極數量 | 4 |
| 尺寸（長寬高：毫米） | 3750 × 1800 × 2500 |
| 腔室容積（立方公尺） | 0.8 |
| 塗層體積（毫米） | Φ650 × 400 |
| 承載能力（樹木） | 8/或依客戶要求 |
| 最大載重（公斤） | 350 |
| 主軸直徑（毫米） | Φ170 |
| 處理時間（小時） | 4~5 |
